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技術(shù)專區(qū)

技術(shù)專區(qū)TECHNICAL AREA

全部分類
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技術(shù)成就

 


產(chǎn)品研發(fā)

 

時(shí)間 研發(fā)成果
1998年3月  國(guó)內(nèi)第一張大面積高精度鉻版掩膜版
2002年6月  國(guó)內(nèi)第一套彩色濾光片用掩膜版
2002年2月  國(guó)內(nèi)第一張大面積石英鉻版掩膜版
2005年12月  國(guó)內(nèi)第一張激光束光刻直寫(xiě)Reticle掩膜版(0.5um IC用掩膜版)
2006年1月  國(guó)內(nèi)第一張彩色液晶顯示器用大面積石英掩膜版
2007年3月  國(guó)內(nèi)第一張OLED用大面積鉻版掩膜版
2007年8月  國(guó)內(nèi)第一張5代TFT用掩膜版生產(chǎn)線
2008年3月  國(guó)內(nèi)第一張5代TFT用掩膜版
2010年5月  國(guó)內(nèi)第一張6代TFT用掩膜版
2010年6月  國(guó)內(nèi)第一張AMOLED用掩膜版測(cè)試版
2011年4月  國(guó)內(nèi)第一張8096 TP掩膜版
2012年1月  國(guó)內(nèi)第一張4.5代AMOLED用掩膜版
2014年4月  國(guó)內(nèi)第一張8.5代TFT-LCD掩膜版
2015年2月  國(guó)內(nèi)第一張5.5代LTPS用掩膜版
2016年10月  國(guó)內(nèi)第一張6代LTPS用掩膜版
2019年9月  國(guó)內(nèi)第一張6代LTPS用掩膜版
2019年10月  國(guó)內(nèi)第一張8.6代GTM用掩膜版
2021年3月  國(guó)內(nèi)第一張Lens Mura CD補(bǔ)正掩膜版
2021年3月  國(guó)內(nèi)第一張Mura全管控混切面板掩膜版
2023年7月  國(guó)內(nèi)第一張6代AMOLED高精度掩膜版(980*1150)

 

設(shè)備研發(fā)

 

時(shí)間 研發(fā)成果
2003年12月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)高精度長(zhǎng)尺寸測(cè)量?jī)x
2006年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)LCVD設(shè)備研制成功
2007年3月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)CD測(cè)量機(jī)、第一臺(tái)貼膜機(jī)
2010年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)PDP壁障修補(bǔ)機(jī)
2011年3月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)TFT面板修補(bǔ)設(shè)備
2012年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)TFT檢查設(shè)備
2015年12月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)LRCD1500型LCVD修補(bǔ)機(jī)
2018年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)8.5代CD測(cè)量機(jī)
2018年11月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)8.5代貼膜機(jī)

 

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