搜索
技術(shù)專(zhuān)區(qū)TECHNICAL AREA
全部分類(lèi)
清溢一直奉行技術(shù)先導(dǎo)的發(fā)展政策，公司成立之初，國(guó)內(nèi)制作大面積光掩模的技術(shù)和人才完全空白。在沒(méi)有任何外來(lái)技術(shù)援助的情況下，清溢科研人員在成立的第二年，就成功研制了國(guó)內(nèi)首張大面積高精度鉻版掩膜版。經(jīng)過(guò)十余年的自主創(chuàng)新和人才培養(yǎng)，形成了完全自主的核心技術(shù)和人才團(tuán)隊(duì)。
公司于2002年成立光掩模技術(shù)研究開(kāi)發(fā)中心，并于2007年經(jīng)深圳市科技和信息局批準(zhǔn)成立依托于清溢的“深圳市光掩模技術(shù)研究開(kāi)發(fā)中心”。
目前，清溢研發(fā)中心，正以“激活內(nèi)腦、用活外腦”為方針，走產(chǎn)、學(xué)、研相結(jié)合的道路，聯(lián)合國(guó)內(nèi)外相關(guān)企業(yè)和科研機(jī)構(gòu)開(kāi)創(chuàng)新技術(shù)來(lái)源，通過(guò)不斷的自主科技創(chuàng)新，推動(dòng)中國(guó)高精度大面積掩膜版制造行業(yè)趕超國(guó)際一流水平。